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PVD真空镀膜如何调整工艺参数来控制薄膜的成分、结构和性能？

2024-03-07
调整工艺参数是控制薄膜成分、结构和性能的重要手段。以下是一些常用的调整工艺参数的方法：沉积速率：沉积速率是指单位时间内沉积在基材表面的材料量。通过调整沉积速率，可以控制薄膜的厚度和成分。一般来说，沉积速率越快，薄膜的厚度越大，但可能会导致薄膜的成分偏离预期值。因此，需要根据具体情况调整沉积速率，以获得理想的薄膜成分和厚度。退火温度：退火温度是指薄膜制备完成后，对薄膜进行热处理的温度。退火可以...
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与PVD镀膜工艺相配套的耗材零件有哪些？

2024-03-06
与PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）镀膜工艺相配套的耗材零件主要包括以下几类：镀膜靶材（Targets）：这是PVD镀膜工艺中的核心耗材，通常由金属、合金或陶瓷制成。靶材的材质和纯度对镀膜的质量有直接影响。气体（Gases）：在PVD过程中，通常需要使用惰性气体（如氩气）以及反应气体（如氮气、氧气等）。这些气体用于形成等离子体和促进镀膜材料的蒸发和溅射...
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真空镀膜有哪些措施可以保障薄膜的均匀性？

2024-03-05
保障薄膜的均匀性可以采取多种措施，这些措施涉及到薄膜制备的各个环节，包括靶材的选择、溅射过程的控制、薄膜制备工艺的优化、原材料和设备的质量控制以及质量检测和评估等。首先，选择高纯度的靶材是减少杂质含量、保障薄膜均匀性的关键。例如，对于金靶材，应选择纯度等级高的产品，如99.99%、99.999%甚至99.9999%，以确保靶材中杂质含量尽可能低。其次，在溅射过程中，要严格控制溅射条件，如溅射...
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溅射靶材应用行业或领域有哪些？

2024-03-05
溅射靶材在多个领域都有广泛的应用，以下是主要的应用行业或领域：微电子领域：溅射靶材在微电子领域的应用非常广泛，主要用于制备集成电路芯材。在这个领域，溅射靶材需要满足高纯度、大尺寸、细颗粒和低偏析等要求。常用的溅射靶材包括钨（W）、钨钛（WTi）、钛（Ti）、钽（Ta）、铝（Al）等合金，纯度通常达到4N或5N。显示器领域：溅射靶材在显示器领域也有重要的应用，主要用于生产薄膜晶体管液晶显示器（...
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祝新的一年会更好！对上海市认定机构2023年认定报备的第二批高新技术企业进行备案的公告

2024-01-04
对上海市认定机构2023年认定报备的第二批高新技术企业进行备案的公告发布时间：2024-01-04 来源：字号： [大] [中] [小]根据《高新技术企业认定管理办法》（国科发火〔2016〕32号）和《高新技术企业认定管理工作指引》（国科发火〔2016〕195号）有关规定，现对上海市认定机构2023年认定报备的第二批4876家高新技术企业备案名单（详见附件）予以公告。 附件：上海市认定机构2...
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喜报！公示2023年度上海市第三批拟认定高新技术企业名单

2023-12-12
关于公示2023年度上海市第三批拟认定高新技术企业名单的通知！ 130 上海振卡新材料科技有限公司
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靶材行业简介、生产工艺以及技术分析

2020-06-10
——靶材行业简介、生产工艺高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%(3N-6N之间)的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料...
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我的中国”芯“之薄膜材料PVD溅射靶材

2020-05-28
概念及原理： 溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。 溅射靶材工作原理示意图如下： 工艺流程 在靶材制...
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PVD薄膜沉积磁控溅射镀膜靶材行业大分析

2020-05-28
溅射靶材作为一种新材料，对于普通大众而言相对陌生，但我们日常所用的电子产品大多都含有这类新材料。其中，半导体芯片、平板显示器、太阳能电池等下游工业对产品的品质和稳定性等方面有较高的要求，因此对溅射靶材也提出了较高质量要求。目前，我国该行业发...
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等离子技术的简介

2020-05-23
　等离子技术概述例如，等离子体技术已经成为制造微电子器件数十年的重要生产工具。在此期间，等离子技术在许多其他工业领域也变得非常宝贵，包括汽车，医疗设备，纺织品和航空航天等等。什么是等离子处理？等离子处理可以做什么？等离子体处理用于清洁和活化...
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