磁控溅射靶材的制造方法

热压

压入近净成形粉末或锭的形式。粉末冶金是用来制造金属，合金，金属陶瓷，氧化物和金属间化合物，当他们不能被融化生产。粉末装入石墨模具，降低入惰性气体，加热到高温和压在单一方向。靶材料的各种形状和大小。

热等静压处理（HIP）

按粉末通过加压气体介质的压力和温度高，如氩气或氮气，以消除内部孔隙和空洞，从而增加密度和升级属性。生产量的粉末冶金产品的成本效益的制造方法。

真空感应熔炼（VIM）

用于真空感应熔炼形成异国情调的金属和合金锭的形式。Vim的进程是创建一个完全致密的金属和均匀混合的首选的制造方法。

起始原料装入坩埚内坐在水冷感应线圈。当电流通过线圈，然后通过流起始原料发送时，感应熔炼开始。起始原料，然后融化成电荷，形成一个元宝。

真空电弧重熔（VAR）

真空电弧重熔是最经常使用的钛及钛合金。熔融金属冷却的速率是一个对比Vim进程VAR的过程中更容易控制。控制冷却是非常重要的金属或金属合金的微观结构时需要严格公差举行。

冷压烧结

冷压和烧结是一种用于生产陶瓷氧化物及其他粉末冶金制品的制造方法的结合。粉末混合，然后压实成在室温下充电。充电，然后放置到烧结炉，慢慢上升到一个致密的高温。温度达到低于负责材料的熔点。

等离子喷涂

等离子喷涂是热喷涂的方法。一个等离子体射流是用来沉积到基材的粉末。厚度范围可以从任何地方微米高达几毫米。粉（原料）是通过深远的温度高达10,000 K，一旦粉末引入到等离子体射流等离子火炬传送，粉末熔化和基板上的推动。等离子喷涂是经常用于旋转溅射靶材。