高纯贵金属钌靶材 Ru Target
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高纯贵金属钌(Ru)磁控溅射镀膜沉积靶材PVD镀膜材料蒸发颗粒

产品名称:

钌(Ruthenium -Ru)溅射靶材

牌号规格:

Ru2

用途备注:

钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能,被广泛用于电子、电气和催化领域,例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等


 贵金属钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能,被广泛用于电子、电气和催化领域,例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司具有完善的靶材加工、质量控制和残靶回收技术,能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌(Ru)溅射靶材。

规格尺寸

形状

圆形、方形

尺寸

Φ10~200mm

厚度

3~15mm

纯度

4N

注:其它尺寸可根据客户要求制作。