钼铌合金靶/MoNb溅射靶材

钼铌合金靶：用于触摸屏的防腐层

英文名称：Molybdenum Niobium Sputtering Targets，

         MoNb Target，MoAlloy Purity 99.9%

钼铌（MoNb）在触摸板中用作ITO传感器的特别耐腐蚀的布线。您可以信赖我们的MoNb溅射靶的质量。因为我们是溅射靶的唯一制造商，我们自己在生产过程的每个阶段，从最纯净的金属粉末到成品溅射靶。在我们在中国有自己的粘合车间，我们为您准备好MoNb溅射靶材。我们提供所有常见尺寸的 MoNb平面靶材和旋转镀膜膜靶材。

在PVD过程中，一切都必须完美地融合在一起。只有完全协调所有工艺参数，才能创建精确满足您要求的涂层。在我们的PVD应用实验室中，我们在近乎真实的条件下进行溅射。在这里，我们的开发团队根据您的规格创建涂层并进行深入分析。通过与您和各种开发机构的合作，我们可以最大限度地缩短开发新涂层材料所需的上市时间。我们使用PVD，CVD，APS和VPS涂层工艺在内部涂覆许多产品，如半导体基板和X射线靶。

公司凭借其最热门的触摸屏面板（TSP）应用新型溅射合金，将创新推向了一个新的高度。弯曲和灵活的触摸屏是最新的高清电视，智能手机，平板电脑和移动设备技术。触摸屏使用Aetoes的钼铌（MoNb）靶来溅射薄膜，用于这些器件中的阻挡层，覆盖层和导电层。

MoNb合金可实现更高的溅射速率，更高质量的薄膜，更少的缺陷和世界一流的耐腐蚀性。单件靶材的生产是Aetoes的独特优势。另一个关键优势是与热等静压（HIP）靶材相比，挤出靶材中的相对密度更高。首屈一指的是我们一流的挤出工艺，可生产各种材料，形状，尺寸和长度。

当为TFT-LTPS和内嵌式触摸板形成栅极和触摸传感器层时，应用我们的钼钨（MoW）平面靶。我们根据客户要求为单件长度的靶材提供不同的成分。由MoW靶制备的薄膜具有优异的湿法和干法蚀刻特性。

所有的颗粒都是相同的材料，所以在溅射过程中不会发生速率不均。在整个溅射面上的无论是薄膜密度还是铌含量都是均匀的。铌含量的标准偏差小于1%（按重量计算）。

最新的钼基合金产品系列展示了该公司能够定制合金的电气性能，耐腐蚀性和蚀刻特性，从而在TSP应用中实现更高的可靠性。这些合金具有大尺寸功能，旋转靶材长达4100mm，平面靶材高达第5代，以及分段（或平铺）靶材。上海振卡新材料公司成功的在全国具有工厂及销售中心，在北京，上海，江苏南京，苏州，福建，广东深圳，广州等地设有团队服务人员，公司生产的溅射靶材质量第一，服务优先的给到客户。

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