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Microchip Technology网络攻击事件引发对半导体供应链及溅射靶材多维度安全的深度思考

2024-08-23
Microchip Technology网络攻击事件引发对半导体供应链及溅射靶材多维度安全的深度思考【新闻摘要】Microchip Technology近期遭遇的网络攻击，不仅揭示了半导体供应链在网络安全方面的脆弱性，也促使业界对溅射靶材等关键材料在供应链安全、质量控制、技术创新及可持续性方面的多维度挑战进行了深入反思。【供应链安全与溅射靶材】溅射靶材作为半导体制造中的核心原材料，其供应链的...
行业动态

喜讯！上海振卡新材料科技有限公司成功入选上海市2024年第1批拟入库科技型中小企业名单

2024-08-09
近日，上海市经济和信息化委员会正式公布了2024年第1批科技型中小企业名单，其中，上海振卡新材料科技有限公司凭借其很好的创新能力和科技实力，成功入选该批次名单，为公司的发展注入了新的强劲动力。 据悉，此次评选旨在提升中小企业的创新能力和专业化水平，促进中小企业高质量发展，助力实现产业基础高级化和产业链现代化。上海振卡新材料科技有限公司作为行业内的一员，一直以来致力于新材料技术的研发与应用，不...
公司新闻 行业动态

PVD真空镀膜如何调整工艺参数来控制薄膜的成分、结构和性能？

2024-03-07
调整工艺参数是控制薄膜成分、结构和性能的重要手段。以下是一些常用的调整工艺参数的方法：沉积速率：沉积速率是指单位时间内沉积在基材表面的材料量。通过调整沉积速率，可以控制薄膜的厚度和成分。一般来说，沉积速率越快，薄膜的厚度越大，但可能会导致薄膜的成分偏离预期值。因此，需要根据具体情况调整沉积速率，以获得理想的薄膜成分和厚度。退火温度：退火温度是指薄膜制备完成后，对薄膜进行热处理的温度。退火可以...
行业动态

与PVD镀膜工艺相配套的耗材零件有哪些？

2024-03-06
与PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）镀膜工艺相配套的耗材零件主要包括以下几类：镀膜靶材（Targets）：这是PVD镀膜工艺中的核心耗材，通常由金属、合金或陶瓷制成。靶材的材质和纯度对镀膜的质量有直接影响。气体（Gases）：在PVD过程中，通常需要使用惰性气体（如氩气）以及反应气体（如氮气、氧气等）。这些气体用于形成等离子体和促进镀膜材料的蒸发和溅射...
行业动态

真空镀膜有哪些措施可以保障薄膜的均匀性？

2024-03-05
保障薄膜的均匀性可以采取多种措施，这些措施涉及到薄膜制备的各个环节，包括靶材的选择、溅射过程的控制、薄膜制备工艺的优化、原材料和设备的质量控制以及质量检测和评估等。首先，选择高纯度的靶材是减少杂质含量、保障薄膜均匀性的关键。例如，对于金靶材，应选择纯度等级高的产品，如99.99%、99.999%甚至99.9999%，以确保靶材中杂质含量尽可能低。其次，在溅射过程中，要严格控制溅射条件，如溅射...
行业动态

溅射靶材应用行业或领域有哪些？

2024-03-05
溅射靶材在多个领域都有广泛的应用，以下是主要的应用行业或领域：微电子领域：溅射靶材在微电子领域的应用非常广泛，主要用于制备集成电路芯材。在这个领域，溅射靶材需要满足高纯度、大尺寸、细颗粒和低偏析等要求。常用的溅射靶材包括钨（W）、钨钛（WTi）、钛（Ti）、钽（Ta）、铝（Al）等合金，纯度通常达到4N或5N。显示器领域：溅射靶材在显示器领域也有重要的应用，主要用于生产薄膜晶体管液晶显示器（...
行业动态

祝新的一年会更好！对上海市认定机构2023年认定报备的第二批高新技术企业进行备案的公告

2024-01-04
对上海市认定机构2023年认定报备的第二批高新技术企业进行备案的公告发布时间：2024-01-04 来源：字号： [大] [中] [小]根据《高新技术企业认定管理办法》（国科发火〔2016〕32号）和《高新技术企业认定管理工作指引》（国科发火〔2016〕195号）有关规定，现对上海市认定机构2023年认定报备的第二批4876家高新技术企业备案名单（详见附件）予以公告。 附件：上海市认定机构2...
行业动态

喜报！公示2023年度上海市第三批拟认定高新技术企业名单

2023-12-12
关于公示2023年度上海市第三批拟认定高新技术企业名单的通知！
130 上海振卡新材料科技有限公司
行业动态

靶材行业简介、生产工艺以及技术分析

2020-06-10
——靶材行业简介、生产工艺高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%(3N-6N之间)的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料...
行业动态

我的中国”芯“之薄膜材料PVD溅射靶材

2020-05-28
概念及原理：        溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。    溅射靶材工作原理示意图如下：                         工艺流程        在靶材制...
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