细分磁控溅射镀膜靶材研究谈

今年有人说是价值龙头和科技龙头的匹配投资,这话大家认为有没有道理?恐怕是智者见智仁者见仁的问题了,从2018年年初开始启动的新科技板块一直就是2018年上半年的重头戏,像火热的5G,芯片半导体,集成电路,包括一些高科技上游材料,但是,这些机会板块的启动挖掘和布局是在年前就要布局的,而不是2018年过完年之后已经启动了你再去布局,那个时间不论是时间还是空间你都不好判定了.

今日主要研究细分溅射靶材的深度研究,估计要分几个章节完成.

“靶”关之材，国家级战略产业

溅射靶材是薄膜制备的关键原料

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，

而形成高速度流的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体

表面的原子离开固体并沉积在基体表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

溅射靶材广泛用于半导体、显示、磁记录、光伏等领域

靶材制造和溅射镀膜是靶材制备的关键环节。溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制

造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

全球靶材市场稳步增长，市场集中度高

预计2016-2019全球靶材市场增速达13%

根据全球半导体贸易统计协会（WSTS）数据，2016 年全球溅射靶材市场容量达113.6

亿美元，相比于2015 年的94.8 亿美元增长20%。全球半导体贸易统计协会（WSTS）预

测2016-2019 年均复合增长率达13%，到2019 年全球高纯溅射靶材市场规模将超过163

亿美元。

半导体、显示、太阳能三大应用成为靶材需求增长主要驱动力。2016 年全球靶材市场的

下游结构中，半导体占比10%、平板显示占34%、太阳能电池占21%、记录媒体占29%，

靶材性能要求依次降低。

溅射靶材企业集中度高，主要企业占据80%全球市场

溅射靶材企业集中度高，2017年主要企业占据全球约80%市场份额。以霍尼韦尔（美国）、

日矿金属（日本）、东曹（日本）等跨国集团为代表的溅射靶材生产商较早涉足该领域，

经过几十年的技术积淀，凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于

全球溅射靶材市场的主导地位，2017 年占据约80%市场份额。

国内电子和材料产业政策扶持靶材产业链发展。近年来，为推动靶材产业的发展、增强技

术创新能力，国家先后出台了多项专项政策和资金支持措施。国家产业政策、研发基金的

出台和落实，为溅射靶材行业的快速发展营造了良好的环境。

公司主营业务为高纯溅射靶材，是国内材料最齐全、工艺最完整、设备能力最强、产能最大的超高纯度金属材料及溅射靶材生产基地。公司主要产品包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等，作为制造超大规模集成电路芯片、液晶面板、薄膜太阳能电池的PVD 电子薄膜原料，主要应用于半导体、平板显示器及太阳能电池等领域，

已成为中芯国际、台积电、格罗方德、意法半导体、东芝、海力士、京东方SunPower等国内外知名厂商的高纯溅射靶材供应商。

半导体溅射靶材新秀，成功打破美、日垄断。在以半导体应用为主的高端靶材领域，公司成功打破美国、日本跨国公司的垄断格局，在16 纳米技术节点已实现批量供货。据公告，公司正不断完善和攻克28-14nm 技术节点用钽靶、钛靶的晶粒晶向控制技术、靶材焊接技术、精密机械加工技术及清洗封装技术，并积极进行客户开发和测试。伴随着近年来晶圆厂的建设加速、以及2018 年底进口靶材关税优惠取消，都将利好国内半导体靶材企业。客户资源优质。公司客户资源优质，在研发、资金、技术、客户等方面均已构筑护城河。

在半导体领域，在铝靶、钛靶、钽靶等方面已成为台积电主要供应商；公司在铝靶、钛靶、钽靶、铜阳极材料方面成为中芯国际主要供应商。平板显示领域，铝靶产品已实现对京东方、华星光电批量销售。公司公告马来西亚子公司已获得当地项目设备进口许可证，整体靶材焊接工厂正处于建设周期。

扩建产能，加大平板显示用靶材布局。2017 年公司募投建设“年产400 吨平板显示器用钼溅射靶材坯料产业化项目”、“年产300 吨电子级超高纯铝生产项目”，产能稳步提升。平面显示是全球靶材最大的应用市场，公司凭借半导体靶材的经验优势进入平面显示靶材

领域，目前平面显示铝靶产品已放量，典型客户包括京东方、华星光电等。

目前主要从事高纯金属材料、 高端稀土功能材料、 生物医用材料、微电子光电

子用薄膜材料、红外光学及光纤材料等新材料的研发与制备。产品主要应用于新能源及新能源汽车、新一代信息技术、生物医药、节能环保等战略性新兴产业领域。

国内半导体靶材稀缺供应商，高纯金属独具优势。在半导体靶材领域，子公司主

打4-6 英寸靶材市场、并积极拓宽8-12 英寸靶材市场。公司依托有研控股体系多年金属研究经验，在高纯金属制备方面优势明显；公司高纯金属靶材产业化项目拟建设8-12 英寸半导体靶材产能约20000 块/年。伴随着靶材产能提升规模效应显现，可降低公司成本。光电半导体、光纤材料、医疗器械等产品储备丰富。公司是红外锗单晶国内最大的供应商，也是全球水平砷化镓最大的供应商；光纤用四氯化锗和四氯化硅产品技术领先，是国内市场的主要供应商；在医疗器械领域，公司开发了牙弓丝、非血管支架、齿科贵金属合金等产品。公司已成立有研国晶辉、有研医疗等子公司，推进业务独立专业运营。

国内平面显示靶材领先企业国内PVD镀膜材料领先企业。公司是国内PVD 镀膜材料领先企业，主营蒸镀材料和溅射靶材业务，广泛应用于光学元器件和平板显示领域，2013-2017Q3 毛利率保持在35%以上。公司凭借丰富的 PVD 镀膜材料制备工艺，成功建立起较为全面的产品供应体系，产品涉足平板显示、光学元器件、节能玻璃、半导体、太阳能电池等领域。受益平面显示产业快速发展，新建平板显示靶材产能。消费升级带动各类消费电子产品需求增长，尤其是随着柔性显示技术突破、OLED 良率提升成本下降，平面显示如LCD、OLED 等应用大幅推广，带动平面镀膜用溅射靶材需求提升。公司顺应下游需求，利用募集资金投资建设“年产 350 吨平板显示溅射靶材建设项目”，稳步扩张平面显示靶材产能，并通过规模效益降低成本。客户资源优质，且粘性较强。经过多年积累，公司已与京东方、群创光电、蓝思科技、伯恩光学、爱普生、水晶光电等知名厂商建立合作关系。PVD 镀膜高技术、高投入，认证周期长达2-3 年，因此客户粘性较高。显示镀膜靶材国产化率水平低，随着平面显示大规模向大陆转移平面靶材需求快速提升。

高额研发投入，积极储备技术。公司历年研发投入在营收中占比保持5%左右，打造优质研发平台自主研发核心技术，已获得23 项专利，9 项核心自主研发技术。同时公司积极把握下游半导体和太阳能光伏产业的快速发展趋势，已经研发出应用于半导体、太阳能电池等领域的新产品。

风险提示

1. 国内半导体增速不及预期，产业快速向东南亚国家转移。2017 年国内半导体产业增

速明显，但2018-2020 年可能存在产业整体增速有限，并且部分下游封装等应用向

东南亚等国家转移，有可能削弱国内半导体产业的增速。

2. 晶硅电池成本大幅下降，薄膜太阳能电池发展不及预期。薄膜太阳能电池的光电转换

效率提升，但同时存在投资规模大、温度稳定性不足等问题。近年单晶硅和多晶硅电

池成本大幅降低，在一定程度上制约薄膜电池的发展。

3. CVD方法取得技术突破或者成本大幅降低，大规模替代PVD应用。溅射靶材主要用

于物理气相沉积（PVD）方法制备薄膜；一旦相应的CVD 方法取得技术突破制备同

样的薄膜材料，或者具备成本优势，则有可能吞噬部分溅射镀膜方法的市场空间。