产品详情

锇靶材是一种高纯度、高密度的金属靶材,主要由锇(Os)元素组成。锇是一种稀有、高密度的金属元素,位于元素周期表的第76位,因其极高的密度(约为22.59 g/cm³)而闻名。锇靶材在溅射镀膜过程中被用作溅射源,通过高能粒子轰击靶材表面,使靶材原子或分子从表面逸出并沉积在基材上,从而形成一层均匀的薄膜。

锇靶材具有以下特点和优势:

高纯度:锇靶材的纯度非常高,通常可以达到99.9%以上,确保了溅射镀膜的高质量。

高密度:锇靶材的密度极高,使得其在溅射过程中更加稳定,不易变形或损坏。

优异的溅射性能:锇靶材具有良好的溅射性能,可以产生均匀、致密的薄膜,适用于多种溅射镀膜工艺。

广泛的应用范围:锇靶材在电子、光伏、磁性材料等领域有着广泛的应用。特别是在需要高密度、高纯度溅射源的场合,锇靶材具有不可替代的优势。

然而,由于锇元素的稀有性和高成本,锇靶材的价格通常较高。此外,由于锇靶材的溅射速率较低,可能需要更长的溅射时间来达到所需的薄膜厚度。

总的来说,锇靶材是一种高质量、高密度的溅射源材料,适用于需要高纯度、高密度溅射源的镀膜工艺。虽然价格较高且溅射速率较慢,但其优异的性能和广泛的应用范围使得锇靶材在溅射镀膜领域具有重要地位。


高纯贵金属磁控溅射镀膜锇靶材Osmium(Os)锇PVD镀膜材料   

产品名称:

锇靶,锇粒,锇粉,锇丝,贵金属锇,锇金,稀贵金属锇酸

牌号规格:

Os 1

用途

主要用于电阻、继电器、火花塞电极、电触头、热电偶及印刷电路等

公司在上海,北京,江苏苏州,南京,广东深圳,广州,沈阳设有公司工厂与销售,向全国广大工业生产厂家提供方便,为广大镀膜厂家提供薄膜材料。


贵金属锇及其合金在石油化学工业上主要作催化剂。

在电子电器工业上,作电阻、继电器、火花塞电极、电触头、热电偶及印刷电路等。

在玻璃工业上,金属锇不会使熔化的玻璃污染,可作为制造光学玻璃时的容器内衬。

锇铱合金可以作钟表和仪器中的轴承,制造笔尖和唱针。

传统上,锇用来制作钢笔尖,现在应用于生产磁控溅射镀膜靶材。

锇溅射靶材Osmium (Os) SputteringTargets

形状

圆形、方形

尺寸

Φ50~100mm

厚度

3~15mm

纯度

≥3N5

注:其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。

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用途:
锇的金属属性决定锇金在工业中可以用做催化剂 。合成或进行加氢反应时用锇做催化剂,就可以在不太高的温度下获得较高的转化率。如果在铂里掺进一点锇,就可做成硬度大且锋利的锇铂合金手术刀。利用锇与一定量的铱可制成锇铱合金,比如某些高级金笔的笔尖上那颗银白色的小圆点即锇铱合金,锇铱合金坚硬耐磨,可以做钟表和重要仪器的轴承,使用年限很长。广泛应用于军工,航空航天,新能源,电子与半导体,平面显示行业,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能行业,磁存储行业,表面工程(装饰&工具)等领域。

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